RF スパッタリング法による BiVO4薄膜成長法の検討

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射频溅射法BiVO4薄膜生长方法研究

DOI:
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发表时间:
2020
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
櫻井 岳暁
櫻井 岳暁
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
田島 和哉;IslamMuhammad Monirul;Jiaqi Liu;Imane Abdellaoui;池田 茂;櫻井 岳暁

文献摘要

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