Structural properties of solution-processed Hf0.5Zr0.5O2 thin films
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DOI：
10.1016/j.cap.2016.11.029
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发表时间：
2017-05
影响因子：
2.4
通讯作者：
J. Y. Lee;G. Anoop;H. Lee;Jeong Hun Kwak;J. Jo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Y. Lee;G. Anoop;H. Lee;Jeong Hun Kwak;J. Jo
