Thin film formation by rf sputtering with EuGa_2S_4 target and photoluminescence of the prepared films
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EuGa_2S_4靶材射频溅射薄膜形成及制备薄膜的光致发光
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发表时间:
2006
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
S.Iida
中科院分区:
文献类型:
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作者:
M.Dohi;A.Kato;M.Sumitani;S.Iida
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DOI:
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发表时间:
2005
期刊:
Journal of Physics and Chemistry of Solids 66
影响因子:
--
作者:
A.Kato;S.Iida;M.Yamazaki;E.Yamagishi;C.Hidaka;T.Takizawa
通讯作者:
T.Takizawa
影响因子:
3.9
作者:
Ted A. O’Brien;M. Zerner;P. Rack;P. Holloway
通讯作者:
P. Holloway
DOI:
--
发表时间:
2005
期刊:
Journal of Physics and Chemistry of Solids 66
影响因子:
--
作者:
A.Kato;M.Tanaka;H.Najafov;S.Iida
通讯作者:
S.Iida
影响因子:
4
作者:
S. Iida;A. Kato;M. Tanaka;H. Najafov;H. Ikuno
通讯作者:
H. Ikuno