Epitaxial growth of CoSi2 on Si(001) by reactive deposition epitaxy: Island growth and coalescence
Epitaxial growth of CoSi2 on Si(001) by reactive deposition epitaxy: Island growth and coalescence
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通过反应沉积外延在 Si(001) 上外延生长 CoSi2：岛生长和聚结
DOI：
10.1016/j.tsf.2006.03.043
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
J. Greene
中科院分区：
文献类型：
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作者：
C. W. Lim;I. Petrov;J. Greene
