T.Iwasaki: "Deposition of TiN film by 50Ha plasma CVD with two diodes baias circuit" Proceedings of 3rd Int.Conf.on Reactive Plasma and 14th Symp.on Plasma Prosessing. 3/14. 156-157 (1997)
T.Iwasaki: "Deposition of TiN film by 50Ha plasma CVD with two diodes baias circuit" Proceedings of 3rd Int.Conf.on Reactive Plasma and 14th Symp.on Plasma Prosessing. 3/14. 156-157 (1997)
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T.Iwasaki：“使用两个二极管拜亚斯电路通过 50Ha 等离子体 CVD 沉积 TiN 薄膜”第 3 届 Int.Conf.on Reactive Plasma 和第 14 届 Symp.on Plasma Prosessing 会议记录。
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