Dopant concentration profile in a Czochralski flow of liquid metal in a vertical or a horizontal magnetic field
Dopant concentration profile in a Czochralski flow of liquid metal in a vertical or a horizontal magnetic field
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垂直或水平磁场中液态金属直拉流中的掺杂剂浓度分布
DOI：
10.1016/0022-0248(93)90555-b
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发表时间：
1993
影响因子：
1.8
通讯作者：
H. Ozoe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Keiji Toh;H. Ozoe
