W.Futako and I.Shimizu: "Modulation of growing surface with atomic hydrogen and excited argon to fabricate narrwo gap a-Si:H" Mat.Res.Soc.Symp.Proc.420. 431-436 (1996)
W.Futako and I.Shimizu: "Modulation of growing surface with atomic hydrogen and excited argon to fabricate narrwo gap a-Si:H" Mat.Res.Soc.Symp.Proc.420. 431-436 (1996)
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W.Futako 和 I.Shimizu：“用原子氢和激发氩调节生长表面以制造窄间隙 a-Si:H”Mat.Res.Soc.Symp.Proc.420。
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