Characterisation of the secondary glow region of a biased microwave plasma by optical emission spectroscopy
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DOI：
10.1016/s0925-9635(00)00237-5
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发表时间：
2000-04
影响因子：
4.1
通讯作者：
M. Whitfield;J. Foord;J. Savage;R. Jackman
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Whitfield;J. Foord;J. Savage;R. Jackman
