水素ラジカルによる選択加熱現象を利用した多結晶Si1-xGex形成技術
水素ラジカルによる選択加熱現象を利用した多結晶Si1-xGex形成技術
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利用氢自由基选择性加热现象的多晶Si1-xGex形成技术
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
川口裕樹
中科院分区：
文献类型：
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作者：
川口裕樹
