High rate sputter-deposition of TiO_2 films using oxide target, IEICE,(2004)
High rate sputter-deposition of TiO_2 films using oxide target, IEICE,(2004)
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使用氧化物靶材高速溅射沉积 TiO_2 薄膜，IEICE，（2004）
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Takahashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Hoshi;T.Takahashi
