Relationship between Oxygen Additive Amount and Photoresist Removal Rate Using H Radicals Generated on an Iridium Hot-Wire Catalyst
Relationship between Oxygen Additive Amount and Photoresist Removal Rate Using H Radicals Generated on an Iridium Hot-Wire Catalyst
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氧添加量与使用铱热丝催化剂产生的 H 自由基的光刻胶去除率之间的关系
DOI：
10.2494/photopolymer.32.609
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发表时间：
2019
影响因子：
0.8
通讯作者：
Horibe Hideo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yamamoto Masashi;Shiroi Tomohiro;Shikama Tomokazu;Nagaoka Shiro;Umemoto Hironobu;Horibe Hideo
