花田 禎一: "Preparation and physical properties of rf-sputtered amorphous films in the Al_2O_3-AlN system" Journal of Non-Crystalline Solids. 135. 227-235 (1991)
花田 禎一: "Preparation and physical properties of rf-sputtered amorphous films in the Al_2O_3-AlN system" Journal of Non-Crystalline Solids. 135. 227-235 (1991)
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Teiichi Hanada：“Al_2O_3-AlN 系统中射频溅射非晶薄膜的制备和物理性质”非晶固体杂志 135. 227-235 (1991)。
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