低ダメージスパッタリングカソードを用いた酸化、窒化ジルコニウム薄膜の作成
低ダメージスパッタリングカソードを用いた酸化、窒化ジルコニウム薄膜の作成
复制标题
使用低损伤溅射阴极制备氧化和氮化锆薄膜
DOI：
--
复制
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
田中正俊
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
古澤将司;石井裕樹;加藤大輝;岩田 寛;関谷隆夫;田中正俊
