K.Y.Jun, I.T.Im, Y.Shimogaki: "Improvement of TiN Flow Modulation Chemical Vapor Deposition from TiCl_4 and NH_3 by Introducing Ar Purge Time"Japanese Journal of Applied Physics. (In press). (2004)
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K.Y.Jun、I.T.Im、Y.Shimogaki：“通过引入 Ar 吹扫时间改进 TiN 流量调节化学气相沉积从 TiCl_4 和 NH_3 的性能”日本应用物理学杂志。
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