Thickness- and orientationdependence of Curie temperature of ferroelectric epitaxial HfO2 based films
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复制标题
铁电外延 HfO2 基薄膜居里温度的厚度和取向依赖性
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Funakubo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Mimura;T. Shimizu;Y. Katsuya;O. Sakata;H. Funakubo
