A Calculation Method of Deposition Profiles in CVD Reactors Using Genetic Algorithms
A Calculation Method of Deposition Profiles in CVD Reactors Using Genetic Algorithms
复制标题
CVD反应器沉积剖面的遗传算法计算方法
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Takahashi and Y. Ema
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Takahashi;K. Kawamura;K. Takahashi and Y. Ema
