MEMS用フォトレジストのマイクロサイズ曲げ特性に及ぼす露光量の影響
MEMS用フォトレジストのマイクロサイズ曲げ特性に及ぼす露光量の影響
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曝光剂量对MEMS光刻胶微尺寸弯曲性能的影响
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
肥後 矢吉
中科院分区：
文献类型：
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作者：
石山 千恵美;松崎 純平;曽根 正人;肥後 矢吉
