Computational Lithography for 3-Dimensional Fine Photolithography using Sophisticated Built-in Lens Mask
Computational Lithography for 3-Dimensional Fine Photolithography using Sophisticated Built-in Lens Mask
复制标题
使用精密内置镜头掩模进行 3 维精细光刻的计算光刻
DOI：
10.2494/photopolymer.34.123
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发表时间：
2021
影响因子：
0.8
通讯作者：
Hirai Yoshihiko
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Osumi Tomoaki;Misaka Akio;Sato Kousuke;Yasuda Masaaki;Sasago Masaru;Hirai Yoshihiko
