M.Fujinami, T.Miyagoe, T.Sawada, R.Suzuki, T.Ohdaira, T.Akahane: "Helium ion implantation-induced defects in silicon proved with variable-energy positrons"Physical Review B. 68. 165332-1-16532-5 (2003)
M.Fujinami, T.Miyagoe, T.Sawada, R.Suzuki, T.Ohdaira, T.Akahane: "Helium ion implantation-induced defects in silicon proved with variable-energy positrons"Physical Review B. 68. 165332-1-16532-5 (2003)
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M.Fujinami、T.Miyagoe、T.Sawada、R.Suzuki、T.Ohdaira、T.Akahane：“用可变能量正电子证明硅中氦离子注入引起的缺陷”物理评论 B. 68. 165332-1-
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