Akira Kawai, Takato Abe: "Analysis of Pattern Collapse of Electron Beam Resist from 60 to 152 nm Width with Atomic Force Microscope Tip"J.Adhesion Soc.Japan. 38. 16-19 (2002)
Akira Kawai, Takato Abe: "Analysis of Pattern Collapse of Electron Beam Resist from 60 to 152 nm Width with Atomic Force Microscope Tip"J.Adhesion Soc.Japan. 38. 16-19 (2002)
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Akira Kawai、Takato Abe：“使用原子力显微镜尖端分析 60 至 152 nm 宽度的电子束抗蚀剂图案塌陷”J.Adhesion Soc.Japan。
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