坂上 弘之: "Atomic Layer Controlled Digital Etching of Silicon" Japanese Journal of Applied Physics. 29. 2648-2652 (1990)
坂上 弘之: "Atomic Layer Controlled Digital Etching of Silicon" Japanese Journal of Applied Physics. 29. 2648-2652 (1990)
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Hiroyuki Sakagami：“硅的原子层控制数字蚀刻”日本应用物理学杂志 29. 2648-2652 (1990)。
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