Hisashi FUKUDA: "Effect of Oxynitridation on charge trapping properties of Ultrathin Silicon diovide films" Journal of Applied Physics. 81・4. 1825-1828 (1997)
Hisashi FUKUDA: "Effect of Oxynitridation on charge trapping properties of Ultrathin Silicon diovide films" Journal of Applied Physics. 81・4. 1825-1828 (1997)
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Hisashi FUKUDA：“氧氮化对超薄二氧化硅薄膜电荷捕获特性的影响”应用物理学杂志 81・4（1997 年）。
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