Study of Topological Quantum Materials under High-Pressure

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高压拓扑量子材料研究

DOI：
10.4131/jshpreview.30.281
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发表时间：
2020
期刊：
The Review of High Pressure Science and Technology
影响因子：
--
通讯作者：
OHMURA Ayako
OHMURA Ayako
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
Hirokazu Fujiwara;Kensei Terashima;Masanori Sunagawa;Yuko Yano;Takanobu Nagayama;Tetsushi Fukura;Fumiya Yoshii;Yuka Matsuura;Makoto Ogata;○Takanori Wakita;Koichiro Yaji;Ayumi Harasawa;Kenta Kuroda;Shik Shin;Koji Horiba;Hiroshi Kumigashira;小澤知己;OHMURA Ayako

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