Vanadium Dioxide Film Growth onn Titanium Metal Layer on Si (100) by Inductively Coupled Plasma Assisted Sputtering Method
Vanadium Dioxide Film Growth onn Titanium Metal Layer on Si (100) by Inductively Coupled Plasma Assisted Sputtering Method
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电感耦合等离子体辅助溅射法在 Si (100) 上钛金属层上生长二氧化钒薄膜
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Md. Suruz Mian and Kunio Okimura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
D.Sekiba;H.Yonemura;S.Ogura;M. Matsumoto;Y.Kitaoka;Y.Yokoyama;H.Matsuzaki;T.Narusawa;K. Fukutani;Md. Suruz Mian and Kunio Okimura
