ION-BEAM-INDUCED CRYSTALLIZATION AND AMORPHIZATION OF SILICON
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DOI：
10.1016/s0168-583x(87)80086-1
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发表时间：
1987-02-01
影响因子：
1.3
通讯作者：
KNOELL, RV
中科院分区：
文献类型：
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作者：
ELLIMAN, RG;WILLIAMS, JS;KNOELL, RV
