Numerical Analysis on Substrate-Incident Carbon Flux in Low-Pressure Radio-Frequency CH<sub>4</sub> Plasmas for Deposition of Diamond-Like Carbon Films
Numerical Analysis on Substrate-Incident Carbon Flux in Low-Pressure Radio-Frequency CH<sub>4</sub> Plasmas for Deposition of Diamond-Like Carbon Films
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低压射频CH<sub>4</sub>等离子体中基体入射碳通量沉积类金刚石碳膜的数值分析
DOI：
10.1541/ieejfms.134.53
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发表时间：
2014
影响因子：
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通讯作者：
小田昭紀，上坂裕之
中科院分区：
文献类型：
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作者：
相星亮;山村直紀;石田宗秋;横水康伸，目黒佳一， 松村年郎．;金森泰樹，山村直紀，石田宗秋;小西弘純・関川純哉;横水康伸，目黒佳一，早瀬哲央，松村年郎．;小田昭紀，上坂裕之
