超音速酸素分子線照射による非平衡ハフニウム吸着シリコン(111)表面界面での酸化反応
超音速酸素分子線照射による非平衡ハフニウム吸着シリコン(111)表面界面での酸化反応
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超音速氧分子束辐照非平衡铪吸附硅（111）表面界面的氧化反应
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
吉越章隆
中科院分区：
文献类型：
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作者：
垣内拓大;穴井亮太;佐伯大殊;津田泰孝;吉越章隆
