磁控溅射铜膜与基底结合强度的分析研究

磁控溅射铜膜与基底结合强度的分析研究
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DOI:
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发表时间:
2016
期刊:
材料研究学报
影响因子:
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通讯作者:
陈广超
陈广超
中科院分区:
其他
文献类型:
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作者:
陈广超

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