プラズマジェット急速熱処理による高密度Ptナノドット形成とフローティングゲートメモリ応用
プラズマジェット急速熱処理による高密度Ptナノドット形成とフローティングゲートメモリ応用
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等离子喷射快速热处理形成高密度Pt纳米点及浮栅存储器应用
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
牧原克典,池田弥央,山根雅人,東清一郎,宮崎誠一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takumi Uezono;Tomoyuki Takahashi;Michihiro Shintani;Kazumi Hatayama;Kazuya Masu;Hiroyuki Ochi;Takashi Sato;Tingyu An and Tsunemi Watanabe;牧原克典,池田弥央,山根雅人,東清一郎,宮崎誠一
