大気圧プラズマCVDにより形成したSiOx薄膜の構造・電気特性の基板温度依存性
大気圧プラズマCVDにより形成したSiOx薄膜の構造・電気特性の基板温度依存性
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常压等离子体CVD形成的SiOx薄膜的结构和电性能与衬底温度的关系
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
鎌田航平，木元雄一朗，田牧祥吾，寺脇功士，大参宏昌，垣内弘章，安武潔
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kinoshita;H.;Kinoshita;M. & Sato;Y.;鎌田航平，木元雄一朗，田牧祥吾，寺脇功士，大参宏昌，垣内弘章，安武潔
