Nanoscale kinetics and dynamics during Ar+ patterning of SiO2
Nanoscale kinetics and dynamics during Ar+ patterning of SiO2
复制标题
SiO2 Ar 图案化过程中的纳米级动力学和动力学
DOI：
10.1103/physrevb.99.165429
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发表时间：
2019
影响因子：
3.7
通讯作者：
Ludwig, Karl F.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Mokhtarzadeh, Mahsa;Ulbrandt, Jeffrey G.;Myint, Peco;Narayanan, Suresh;Headrick, Randall L.;Ludwig, Karl F.
