Observation of Microstructures in the Longitudinal Direction of Very narrow Cu Interconnects

Observation of Microstructures in the Longitudinal Direction of Very narrow Cu Interconnects
复制标题

极窄铜互连线纵向微观结构的观察

DOI:
--
复制
发表时间:
2006
期刊:
Jpn. J. Appl. Phys. Vol.45
影响因子:
--
通讯作者:
T. Saitou and K. Ishikawa
T. Saitou and K. Ishikawa
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
K. P. Khoo;J. Onuki;T. Nagano;Y. Chonan;H. Akahoshi;T. Tobita M. Chiba;T. Saitou and K. Ishikawa

文献摘要

相似文献