誘電体バリア放電反応器によるシリカ膜のプラズマCVD製膜
誘電体バリア放電反応器によるシリカ膜のプラズマCVD製膜
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使用介质阻挡放电反应器等离子体 CVD 沉积二氧化硅薄膜
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
長澤 寛規，香川 貴彦，金指 正言，都留 稔了
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yuui Yokota;Takayuki Nihei;Masao Yoshino;Akihiro Yamaji;Yuji Ohashi;Shunsuke Kurosawa;Kei Kamada;Akira Yoshikawa;長澤 寛規，香川 貴彦，金指 正言，都留 稔了
