UHV/CVD法生长硅基低位错密度厚锗外延层
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DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
陈松岩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
赖虹凯;余金中;周笔;王启明;汪建元;李成;林桂江;周志文;张永;蔡坤煌;蔡志猛;陈松岩
