Irman IDRIS and Ossamu SUGIURA: "Hydrogen-free plasma-enhanced chemical vapor deposition of silicon dioxide using tetta-isocyanate-silace (Si (NCO) _4)" Japanese Journal of Applied Physics. Vol 34. L772-L774 (1995)
Irman IDRIS and Ossamu SUGIURA: "Hydrogen-free plasma-enhanced chemical vapor deposition of silicon dioxide using tetta-isocyanate-silace (Si (NCO) _4)" Japanese Journal of Applied Physics. Vol 34. L772-L774 (1995)
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Irman IDRIS 和 Ossamu SUGIURA：“使用四异氰酸酯硅 (Si (NCO) _4) 进行二氧化硅的无氢等离子体增强化学气相沉积”，《日本应用物理学杂志》。
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