Co-deposition Behavior of Nanodiamond with Electrolessly Plated Nickel Films
Co-deposition Behavior of Nanodiamond with Electrolessly Plated Nickel Films
复制标题
纳米金刚石与化学镀镍膜的共沉积行为
DOI：
--
复制
发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
H.Matsubara
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
H.Matsubara;T.Yonekawa;Y.Ishino;N.Saito;H.Nishiyama;Y.Inoue;松原 浩;H.Matsubara
