M.Ishida: "Characterigation of initial stage of deposition process for TMA on Si with a few Siox layers" J.Appl.Phys.
M.Ishida: "Characterigation of initial stage of deposition process for TMA on Si with a few Siox layers" J.Appl.Phys.
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M.Ishida：“具有少量 Siox 层的 Si 上 TMA 沉积过程初始阶段的表征”J.Appl.Phys。
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