T.Suganuma, et al.: "157-nm coherent light source as an inspection tool for F_2 laser lithography"Optics Letters. 27・1. 46-48 (2002)
T.Suganuma, et al.: "157-nm coherent light source as an inspection tool for F_2 laser lithography"Optics Letters. 27・1. 46-48 (2002)
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T.Suganuma 等人：“157 nm 相干光源作为 F_2 激光光刻的检查工具”Optics Letters 27・1 (2002)。
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发表时间：
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期刊：
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通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
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作者：
从 VUV 吸收光谱中确定 Xe2 最低激发态分子态的实验
影响因子：
4.4
作者：
M. Castex
通讯作者：
M. Castex
通过汞蒸气中的四波参量振荡在真空紫外中产生高亮度相干辐射。
影响因子：
3.6
作者：
J. Bokor;R. Freeman;R. Panock;J. White
通讯作者：
J. White