Investigation of etching characteristics of HVPE-grown In2O3 layers by hydrogen-environment anisotropic thermal etching
Investigation of etching characteristics of HVPE-grown In2O3 layers by hydrogen-environment anisotropic thermal etching
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氢环境各向异性热刻蚀 HVPE 生长 In2O3 层的刻蚀特性研究
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Y. Kumagai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Kasaba;Y. Ooe;K. Nagai;K. Goto;R. Togashi;A. Kikuchi;and Y. Kumagai
