Neat Alq3 thin film and metal/Alq3 interfaces studied by NEXAFS spectroscopy
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DOI：
10.1016/j.synthmet.2005.07.108
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发表时间：
2005-09
期刊：
影响因子：
4.4
通讯作者：
T. Yokoyama;H. Ishii;Noritaka Matsuie;K. Kanai;E. Ito;A. Fujimori;T. Araki;Y. Ouchi;K. Seki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Yokoyama;H. Ishii;Noritaka Matsuie;K. Kanai;E. Ito;A. Fujimori;T. Araki;Y. Ouchi;K. Seki
