Tadahiro Ohmi: "High-Quality Gate Oxide Films Based on Ultraclean Technology" 24th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference. 1.1 (1993)
Tadahiro Ohmi: "High-Quality Gate Oxide Films Based on Ultraclean Technology" 24th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference. 1.1 (1993)
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Tadahiro Ohmi：“基于超净技术的高质量栅极氧化膜”第 24 届 IEEE 半导体接口专家会议。
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