Atomic layer deposition法を用いたNi薄膜の作製と評価
Atomic layer deposition法を用いたNi薄膜の作製と評価
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原子层沉积法镍薄膜的制备与评价
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小野輝男
中科院分区：
文献类型：
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作者：
島村一利;千葉大地;小野輝男
