真空アークプラズマを用いたDLC:Si:H膜の合成
真空アークプラズマを用いたDLC:Si:H膜の合成
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采用真空电弧等离子体合成 DLC:Si:H 薄膜
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
田上英人
中科院分区：
文献类型：
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作者：
加藤;佐野;鈴置;須藤利文;田上英人
