絶縁膜状におけるSiGe結晶成長とデバイス応用
絶縁膜状におけるSiGe結晶成長とデバイス応用
复制标题
绝缘膜形式的 SiGe 晶体生长和器件应用
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
宮尾 正信 他
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Miyao 他;M.Miyao 他;M.Miyao et al.;M.miyao et al.;M.Miyao 他;M.Miyao 他;I.Tsunoda 他;I.Tsunoda 他;宮尾 正信 他
