Substrate Surrounding Type Magnetron Sputtering Equipment Comparison of HiPIMS and DCMS Drive
Substrate Surrounding Type Magnetron Sputtering Equipment Comparison of HiPIMS and DCMS Drive
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基板环绕式磁控溅射设备 HiPIMS 与 DCMS 驱动器比较
DOI：
10.1541/ieejfms.142.101
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发表时间：
2022
影响因子：
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通讯作者：
Oda Akinori
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Suematsu Kota;Kousaka Hiroyuki;Furuki Tatsuya;Shimizu Tetsuhide;Ohta Takayuki;Oda Akinori
