チロシン残基修飾による抗体の部位選択的修飾と蛍光免疫センサー分子作成法への応用
チロシン残基修飾による抗体の部位選択的修飾と蛍光免疫センサー分子作成法への応用
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酪氨酸残基修饰对抗体的位点选择性修饰及其在荧光免疫传感器分子生产方法中的应用
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中村浩之
中科院分区：
文献类型：
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作者：
佐藤伸一;松村雅喜;上田宏;中村浩之
