分子動力学法によるSiO_2/Si界面近傍のボイド分布の解析
分子動力学法によるSiO_2/Si界面近傍のボイド分布の解析
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分子动力学方法分析SiO_2/Si界面附近的孔隙分布
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
大泊 巌
中科院分区：
文献类型：
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作者：
太田 洋道;大泊 巌
