High-aspect-ratio germanium zone plates fabricated by reactive ion etching in chlorine
High-aspect-ratio germanium zone plates fabricated by reactive ion etching in chlorine
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氯中反应离子蚀刻制备高深宽比锗波带片
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A. Holmberg
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Lindblom;J. Reinspach;O. V. Hofsten;M. Bertilson;H. Hertz;A. Holmberg
本文介绍了软X射线锗波带片的制作工艺的基础上反应离子刻蚀（RIE）在Cl-2。侧壁钝化可获得高度的各向异性。
This article describes the fabrication of soft x-ray germanium zone plates with a process based on reactive ion etching (RIE) in Cl-2. A high degree of anisotropy is achieved by sidewall passivat ...