フローチャネル型製膜装置によるSiO2-SCFD
フローチャネル型製膜装置によるSiO2-SCFD
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SiO2-SCFD采用流道式成膜设备
DOI:
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发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
百瀬健
中科院分区:
文献类型:
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作者:
大伴真名歩;他(筆頭著者・発表者);百瀬健;小川幸子;神野直哉;百瀬健