Shun-ichiro Ohmi, Eisuke Tokumitsu, Hiroshi Ishiwara: "Contactless Measurement of Electron Mobility in Ferroelectric Gate High-Electron-Mobility Transistor Structures" Jpn. J. Appl. Phys.34. L603-L605 (1995)
Shun-ichiro Ohmi, Eisuke Tokumitsu, Hiroshi Ishiwara: "Contactless Measurement of Electron Mobility in Ferroelectric Gate High-Electron-Mobility Transistor Structures" Jpn. J. Appl. Phys.34. L603-L605 (1995)
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Shun-ichiro Ohmi、Eisuke Tokumitsu、Hiroshi Ishiwara：“铁电栅高电子迁移率晶体管结构中电子迁移率的非接触式测量”Jpn。
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